自然对流烘箱的功能：APT.LineTM技术为箱体带来均匀的温度分布和微小的温度波动。液晶显示多功能控制器，操作简单，直观。字母/数字显示，更容易操作和读取数据。通过USB端口导出数据，更加方便，或者通过以太网导出数据。经济型加热系统和低散热量使箱体能耗降低。自然对流烘箱的使用：1.应安放在室内干燥和水平处，防止振动和腐蚀。2.要注意安全用电，根据烘箱耗电功率安装足够容量的电源闸刀。选用足够的电源导线，并应有良好的接地线3.带有电接点水银温度计式温控器的烘箱应将电接点温度计的...

混料球磨设备架上设有与转轴相连并驱动球磨圆筒的驱动电机，机架上装设有包裹与球磨圆筒外部的外仓，外仓底部呈倒锥形并设有出料口，可在限度降低噪音、减少粉尘，实现不跨料、定量出料和均匀出料。之所以有的会出现混料不均匀的现象，是因为转速与研磨细度不均匀等问题造成的。可磨物料多达200余种，细度与粒度均匀易把控，转速已优化至比值，因此不易出现混料不均匀、混料时间耗费过长等问题。混料球磨设备的产品特点：1、流动性好，强度高，不泌水、不分层。2、耐久性好，系无机灌浆材料，不存在老化，对钢筋...

试论锂离子电池极片的轧制与电池极片轧机一.锂离子电池的历史沿革人们往往把锂离子电池称为锂电池，其实锂离子电池从严格意义上讲只是锂电池的一种。而锂电池是指电化学体系中含有锂的电池，大致可分为两类：锂金属电池和锂离子电池。锂金属电池是由金属锂或铝合金为负极材料，使用非水电解质溶液的电池，其发明者为伟大的发明家爱迪生。1970年埃克森的M.S.whittingham采用硫化钛为正极材料，金属锂作为负极材料，制成锂电池。由于锂金属的化学特征非常活泼，使锂金属的加工、使用及保存，对环境...

CVD气相沉积指把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室，在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。在超大规模集成电路中很多薄膜都是采用CVD方法制备。经过CVD处理后，表面处理膜密着性约提高30%，防止高强力钢的弯曲，拉伸等成形时产生的刮痕。CVD气相沉积的优点：1、沉积成膜装置简单；2、与直接蒸发法相比，可在大大低于其熔点或分解温度的沉积温度下制造耐熔金属和各种碳化物、氮化物、硼化物、硅化物和氧化物薄膜；3、成膜所需的反应源材料一般比较容易...

上海添时科学仪器有限公司官网的温区作用1、上海添时科学仪器有限公司官网的温区作用根据实验室要求选择单温区管式加热炉和多温区管式加热炉，多温区较单温区会设有多高热电偶，n温区加热炉的恒温区比（n-1）温区的加热炉恒温区要长，部分仪器尺寸变大。2、恒温区的作用恒温区一般指加热炉内的某一段区间内各点温度基本一致，样品放置在这一区间内，样品各处受到的温度会基本一致。（中心区域温差小于+/-1℃）3、恒温区不同带来的变化恒温区的增加或减少可能会改变仪器的尺寸，仪器整体会变长变大。4、恒温区选择选择合适的恒温区，一定要先根据实验样...

化学气相沉积是反应物质在气态条件下发生化学反应，生成固态物质沉积在加热的固态基体表面，进而制得固体材料的工艺技术。它本质上属于原子范畴的气态传质过程。常用的化学气相沉积法有常压化学气相沉积法(Atmospheric-pressureCVD，APCVD)、低压化学气相沉积法(Low-pressureCVD，LPCVD)和等离子增强化学气相沉积法(Plasma-enhancedCVD，PECVD)，而这三种化学气相沉积法的均有各自的优、缺点及应用的地方。化学气相沉积主要应用于两大...

真空感应熔炼炉的工作原理：使用时，熔炼的材料在水冷铜坩埚内进行悬浮熔炼、净化及加热，同时可以进行电磁搅拌细化晶粒及杂质分离，凝固时停止熔炼，仍然进行电磁搅拌以继续均匀成分及组织。启动凝固拉杆并内部通水冷却，在密封舱内按一定速度缓缓下降拉杆，达到普通凝固或者定向凝固的作用。*冷却后得到一根棒坯。另外，本设备设计了机械搅拌装置，可从事复合材料的制备。本设备具有纯净化、均匀化和连续化制备高活性铜铝钛及其合金的特点，适合用于科研和工业化生产。真空感应熔炼炉的特点：1、感应线圈借鉴国外...

马弗炉又称为高温电炉，箱式电炉，其实是一种通用的加热设备，可分为：箱式炉、上海添时科学仪器有限公司官网、坩埚炉。具体作用：(1)马弗炉可以热加工、水泥、建材行业,进行小型工件的热加工或处理；(2)国家标准节能型周期作业电炉，主要供合金钢制品、各种金属机件正火、淬火、退火等热处理之用，或金刚石等切割刀片进行高温烧结用途(3)碳钢、合金钢、高锰钢、高铬钢等工件淬火、正火、退火、调质加热用。(4)各种小型零件、弹簧、模具热处理。高温电炉通常温度可达到1800度，经过特殊处理的炉子可达到1800度，(5)...

实验材料：厚度0.5㎜的铜箔、透明无机溶胶，实验样品如图1所示铜箔无机溶胶图1实验所用样品图材料特性：铜箔质软，容易褶皱；透明无机溶胶具有较大的粘性，不易甩开。实验目的：在铜箔表面涂覆一层厚度均匀的薄膜实验设备：VTC-200真空旋转涂膜机，实验所用设备如图2所示：VTC-200真空旋转涂膜机图2实验所用设备图实验所用设备特点：VTC-200真空旋转涂膜机具有操作简单、清理方便，体积小巧等优点，可利用高速旋转的吸盘使粘滞系数较大的胶体、溶液等材料均匀地涂覆在样件表面。该机使用...

高真空蒸发镀膜仪应用十分广泛，如今在我们的生活中到处可见，是*的一项技术。由真空镀膜室、蒸发源、真空机组、卡具、蒸发电源、控制系统与辅助装置等组成。高真空蒸发镀膜仪主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。在高真空蒸发镀膜仪的使用中，有3大要素是需要用户特别留意：清洁真空镀膜机每完成200个镀膜程序以上，应清洁工作室一次。方法是：用烧碱（NaOH）饱和溶液反...

小型蒸镀仪标准操作步骤小型蒸镀仪是一款小型真空镀膜仪，特别适合蒸镀一些轻金属，如Al.Mg,和Li等。同时也可对样品进行镀碳处理，zui大可处理的样品直径为50mm。小型蒸镀仪的使用可分为4步，即蒸镀前准备工作、蒸镀仪的预热、蒸镀薄膜以及关机.1、蒸镀前准备工作：1.1）开充气阀，对钟罩内充气，再升钟罩；1.2）根据钟罩内是否清洁，先使用酒精清洗钟罩内的零部件；1.3）安装钼舟，并将铝丝条放入钼舟中，并将所要沉积的衬底粘附于铝板上；1.4）降钟罩，在钟罩下降的同时要观察是否存...

双靶磁控溅射仪是一款新型的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。双靶磁控溅射仪操作规范：双靶磁控溅射仪开机1、打开冷水机。设定温度：冬天10-15℃，夏天5℃2、打开放气阀破真空，然后关闭放气阀（之后整个工作过程务必保证放气阀均是关闭状态。本机阀门均是逆时针打开，顺时针关闭）3、...