涡轮流量计由涡轮、轴承、前置放大器、显示仪表组成。涡轮流量计的原理是在管道中心安放一个涡轮，两端由轴承支撑．当流体通过管道时，冲击涡轮叶片，对涡轮产生驱动力矩，使涡轮克服摩擦力矩和流体阻力矩而产生旋转．在一定的流量范围内，对一定的流体介质粘度，涡轮的旋转角速度与流体流速成正比．由此，流体流速可通过涡轮的旋转角速度得到，从而可以计算得到通过管道的流体流量．涡轮的转速通过装在机壳外的传感线圈来检测．当涡轮叶片切割由壳体内磁钢产生的磁力线时，就会引起传感线圈中的磁通变化．传感线圈将...

气氛炉是一种具有控制热处理过程气氛的设备，主要应用于金属、玻璃、陶瓷等材料的加热和处理。它的工作原理是利用特定的气体环境来保护加热材料表面，同时控制材料中的氧气含量，防止材料氧化、变质或受到其他污染。本文将详细介绍它的结构、工作原理、应用及未来发展趋势。一、气氛炉的结构主要由炉膛、加热元件、进气口、出气口、温度控制系统、气氛控制系统等组成。其中，炉膛是整个设备的核心部分，通常采用耐火材料制成，可承受高温、高压和化学腐蚀。加热元件则是产生热源的关键，通常采用电阻丝、电磁线圈等方...

研磨抛光机是一种常见的机械设备，其主要功能是对物体表面进行研磨和抛光。这种机器的出现，更大地提高了工业生产效率和产品质量。一、原理及构造研磨抛光机是由电动机、研磨盘、抛光盘、传动装置、控制系统等组成的。其工作原理是通过电动机带动研磨盘或抛光盘旋转，使其表面与待加工物体表面产生摩擦，从而实现对物体表面的研磨和抛光。二、应用领域广泛应用于金属、塑料、陶瓷、石材、玻璃等材料的研磨和抛光。在工业生产中，被广泛应用于汽车零部件、航空航天零部件、电子产品、仪器仪表等领域的加工和生产中。同...

恒电位仪的运行原理电化学测量系统简称为电化学工作站，为电化学研究和教学常用的测量设备。其主要包括单通道工作站和多通道工作站两大类，在生物技术、物质的定性定量分析等方面应用。从整体上而言，恒电位属于一个放大负反馈的输出系统，和如埋地管道等被保护物组成闭环调节，利用参比电极来对通电点电位进行测量，作为取样信号与控制信号相比较，使得极化电流输出的控制和调节得以实现，使通电电位能够在设定的控制电位上得以保持。仅需正确地计算设计放大倍数，取样信号特性与仪器输入输出特性的线性一致足够，并...

概述：地质薄片内赋载了大量原始实物资料信息，作为地质成果的一部分，对实物地质薄片显微图像资料进行编研，是开发利用实物地质资料信息的重要手段。摘要：可以形成反映地区或图幅范围内的岩石特征的薄片显微图像系列成果，展示地区或图幅内岩石特点，使得对图像认识和说明了解，能具体认识岩性特征及分布等，了解地区工作工作程度服务，认识岩性岩相特征、地区地质矿产条件等，就可以不再重复取样，减少不必要的制作浪费等；为专家学者研究某个地质事件，某项地质活动等提供岩石薄片显微信息第一手资料，从而为地质...

“旋涂机”是一种利用旋转离心力的涂布装置，也被称为“旋转涂布机”。对于平滑的被涂物（工件），能够形成薄且均匀的涂层。旋涂机的用途非常广泛，代表性用途包括半导体晶圆的表面处理、光阻涂布等流程类工序，以及光学媒介涂膜、镜头底剂及调光液的涂布等。A.旋转B.被涂物表面C.涂液将涂液滴落在被涂物（工件）的中心，进行高速旋转。加速旋转会对涂液施加离心力，使涂液扩散到整个表面并成膜。涂布膜厚取决于涂液的粘度、被涂物的转速、旋转启动加速度、与干燥速度相关的排气。旋涂的原理是依靠旋转离心力将...

手套箱是一种运用真空技术，将气体压力调低，从而实现温度、环境与痕迹控制的工具。它主要由不锈钢壳、真空系统和手套组成，在各种实验、生产和制造等领域中广泛应用，已成为科学仪器的重要组成部分。首先，能够提供理想的操作环境，免疫外界污染，保护操作物质不受氧化、水解、碳化等影响。因为真空手套箱内部减压，内部氢气含量少，而氢气会对金属表面形成破坏性作用，而减少氢气浓度则增加金属的稳定性。此外，不锈钢材质本身具有抗腐蚀、耐高温等优良性能，可充分保证耐用性和稳定性。其次，还具有痕迹控制与防爆...

提拉涂膜机是一种用于包装行业的设备，它的作用是在各种材料表面上涂覆一层薄膜，以提高其保护性和美观性。这种设备的使用范围非常广泛，涉及到食品、医药、化妆品、电子等各行各业中的包装需求。本文将从原理、类型、优点、应用等方面进行介绍。提拉涂膜机的工作原理是：将半透明的薄膜卷材放置在机器的下部，通过装载卷材，并将其沿着一定的路径送入机器内部的涂布部分，然后反向运动，从而涂布生成一层均匀厚度的薄膜。此外，还能根据不同的材料和需要的效果，调节涂布速度、厚度和温度等参数，以达到更好的包装效...

水热反应釜可手动螺旋坚固。最高适用温度为180℃；最高温度可达230℃水热反应釜是一种能分解难溶物质的密闭容器。可用于原子吸收光谱及等离子发射等分析中的溶样预处理；也可用于小剂量的合成反应；还可利用罐体内强酸或强碱且高温高压密闭的环境来达到快速消解难溶物质的目的。是测定微量元素及痕量元素时消解样品的得力助手。可在铅、铜、镉、锌、钙、锰、铁、汞等重金属测定中应用，还可作为一种耐高温耐高压防腐高纯的反应容器，以及有机合成、水热合成、晶体生长或样品消解萃取等方面。在样品前处理消解重...

电解抛光是通过对电流密度，溶液粘度几温度的控制，使金属在电解液中选择性溶解（低凹处进入钝态而凸起部位活性溶解）结合溶液光亮剂和阳极极化作用，达到电化学整平抛光的目的。电解抛光过程简介1.首先采用机械抛光打磨设备及工件表面的氧化皮和各种表面缺陷，使被处理表面初步达到一定的粗糙度。2.再用电解的方式进一步提高被处理表面的光洁度。机械抛光是宏观消除表面的氧化皮及各种缺陷，而电解抛光是一个微观整平的过程，进一步提高表面的物化性能。电解抛光的优点:1.由于电解抛光具有电化学整平及光亮作...

3分钟看懂真空上海添时科学仪器有限公司官网通烧结气体操作步骤真空上海添时科学仪器有限公司官网通烧结气体操作步骤:1.首先要注意的就是关闭工作气体气路，将上海添时科学仪器有限公司官网气体出口端连接真空泵2.打开真空泵电源，打开出气阀，抽空管体和气体管路。3.当上海添时科学仪器有限公司官网真空表到-0.1(指针到尽头时)，关闭进气阀。静置一小时，上海添时科学仪器有限公司官网真空表不移动仍为-0.1时，说明上海添时科学仪器有限公司官网密封性良好，否则要找出漏气点改正。也可以使用惰性气体加压的方式测试气密性，加压一般不超过0.05Mpa。4.旋动旋钮开气瓶主阀，缓慢打开出口减压阀，使出口气压在合理范围。(压力表上...

薄膜沉积是在半导体的主要衬底材料上镀一层膜。这层膜可以有各种各样的材料，比如绝缘化合物二氧化硅，半导体多晶硅、金属铜等。用来镀膜的这个设备就叫薄膜沉积设备。从半导体芯片制作工艺流程来说，位于前道工艺中。薄膜制备工艺按照其成膜方法可分为两大类：物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积（CVD），其中CVD工艺设备占比更高。物理气相沉积（PVD）指将材料源表面气化并通过低压气体/等离子体在基体表面沉积，包括蒸发、溅射、离子束等；化学气相沉积(CVD)是指通过气体混合的化学反应在硅片表...