钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。

VTC-16-3HD ，3靶等离子溅射仪，是一款紧凑型的等离子薄膜溅射仪（直流普通型），控制面板采用触摸屏模式，基片极限尺寸为2″，放置样品的直径为Ø50mm，加热温度达500℃。VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪可溅射金、银、铜三种靶材，不可以溅射轻金属和碳。本机采用旋转式样品台，能够依次在同一样品上涂覆三层薄膜，适用于实验室制备复膜的样品。

GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的蒸发镀膜仪，特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有机物。本机设有4个蒸镀加热舟，每个加热舟都可独立进行蒸镀，加热舟上方有一个可旋转挡板，当其中一个加热舟进行蒸镀时挡板将其它三个钨舟遮住，以防蒸镀材料之间相互污染。

MSK-USP-04C超声喷雾热解涂膜机通过一个加热平台来控制基底温度，从而加速薄膜的干燥速度，加热平台的加热温度可高达500℃，在此温度范围内基本可以满足绝大多数实验的需要。

静电纺丝法是一种利用高压电场的作用，将聚合物溶液或熔体纺丝成尺度在微米到纳米级的细纤维的简单而有效的加工工艺，即聚合物喷射静电拉伸纺丝法。由于静电纺丝制备的纤维比传统的纺丝方法细得多，直径一般在数十到上千纳米，并且由电纺加工方法制备的互联孔纳米纤维材料具有极大的比表面积，同时纤维表面还会形成很多微小的二次结构，因此有很强的吸附力以及良好的过滤性、阻隔性、粘合性和保温性等。

VTC-100PAH真空旋转涂膜机适用于半导体工艺、晶体、光盘、制版及表面涂覆等工艺，可用于强酸、强碱涂覆溶液。样件固定采用真空吸附方式。使样件取放自如，操作简单。电机启动快速度稳定，可以保证涂层厚度的一致性和均匀性。VTC-100PAH真空旋转涂膜机具有操作简单、清理方便，体积小巧等优点，主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。