VTC-16-SM是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪，包含一个2英寸水冷靶头和可旋转样品台，外形小巧，性价比高，是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备，可选配各种金属靶材和真空泵。

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详细介绍

    VTC-16-SM是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪，包含一个2英寸水冷靶头和可旋转样品台，外形小巧，性价比高，是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备，可选配各种金属靶材和真空泵。

    用直流磁控溅射仪可获得单相Al膜

    技术参数

输入电压	AC 208V ~ 240V, 50/60 Hz
输入功率	< 2000W
输出功率	电压：1600VDC;大电流：150mA
腔体	石英腔体：167mm OD. x 152mm ID x 260mm Height
	2英寸带水冷磁控溅射头
溅射头和样品台	一个直径50mm不锈钢样品台,样品台可旋转,旋转速率0 - 5 RPM
	配有一手动操作的挡板，包含靶头支撑架
	样品台和靶头之间的距离可以调节，调节范围：60-100mm
控制面板	6" PLC集成触摸屏控制面板，可控制真空、电流、靶材位置和基片加热温度
	双极旋片真空泵VRD-8，KF25接口
附件（可选）	KF25不锈钢波纹管
	10L/min 循环水冷机冷却磁控靶头
气氛	含一个控制进气的针阀和一个放气阀
	靶材尺寸: 50 mm dia. x 0.50 -2 mm
靶材	适合溅射Au,Ag,Cu,Al,Cr,Ti,Sn,Ni等金属，可选购
可选配件	膜厚监测仪
	分子泵，可获得高真空， >10E-5 torr
	为获得好的薄膜强度，建议镀膜前用等离子清洗机对基片进行清洗。
	500度样品加热台
体积	( L 440mm×W 330mm × H 290mm
净重	20 kg ( not included pump )
质保和证书	一年质保，终生维护
质保和证书	CE认证
磁控溅射镀膜知识	与客户分享新的磁控溅射镀膜技术，请点击文章链接- Plasma Sputter Coating.

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