小型等离子清洗机集成了RF等离子体发生技术、计算机控制技术、软件编程技术，采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。工作时外接一台真空泵，清洗腔内的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面，可短时间内*清洗掉有机污染物，清洗程度可达到分子级。另外，其样品台可选配加热功能，可加负偏压，用以实现离子蚀刻。此外，其可在特定条件下根据需要改变某些材料表面的性能。

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更新时间：2024-12-02
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小型等离子清洗机集成了RF等离子体发生技术、计算机控制技术、软件编程技术，采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。工作时外接一台真空泵，清洗腔内的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面，可短时间内*清洗掉有机污染物，清洗程度可达到分子级。另外，其样品台可选配加热功能，可加负偏压，用以实现离子蚀刻。此外，其可在特定条件下根据需要改变某些材料表面的性能。

技术参数

主要特点	采用气体作为清洗介质,避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。
	可短时间内*清洗掉有机污染物。
	清洗程度可达到分子级。
	可在特定条件下根据需要改变某些材料表面的性能。
	清洗过程中的辉光放电可对某些特殊用途的材料加强粘附性、相容性和浸润性,并可消毒和杀菌.
	样品台可选配加热功能,可加负偏压,用以实现离子蚀刻.
	广泛应用于光学,光电子学,电子学,材料科学,生命科学,高分子科学,生物医学,微观流体学等领域.
参数	电压：AC220V 10A
	消耗功率：<500W（包括真空泵）
	RF电源：输出功率100W，输出频率13.56MHz
	腔体：Φ190mm×98mm
	石英管：Φ180mm×55mm，壁厚7mm
	内腔：Φ165mm×55mm
	清洗电极：Φ120mm
	样品台：Φ150mm，有效尺寸Φ140mm
	样品台与电极间距：15mm-50mm可调
	抽气管：Φ12mm
	极限真空度：0.1Pa
	工作真空度：60Pa-500Pa
	气路数量：2路（选装）
	流量控制器数量：1、2
	流量显示仪：2通道
	气路接口：Φ6mm
	加热样品台：Φ140mm，加热样品温度RT-600℃±1℃（选装）
	冷却水压力：0.2KPa-0.4KPa
	工作环境：温度5℃-35℃，湿度<80%（相对湿度）不结露，海拔高度0-2000m
产品规格	尺寸：245mm×235mm×460mm（不含真空泵）
产品规格	重量：20kg（不含真空泵）
可选配置	加热样品台
可选配置	流量控制器（量程10、50、100，多可增加2个通道）

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