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双靶高真空磁控溅射仪
简要描述:

VTC-600-2HD是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪,其中一个靶头采用直流(DC)溅射,可溅射金属靶材制备金属膜,另一个采用射频(RF)溅射,可溅射金属和氧化物靶材,制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜,如铁电、导电,合金,半导体,陶瓷,介电,光学,氧化物和PTFE薄膜等。而且设备体积较小操作方便,是一套理想的实验工具。

  • 产品型号:VTC-600-2HD
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2024-12-04
  • 访  问  量:3324

详细介绍

品牌其他品牌应用领域环保,化工,电子
真空腔体φ300 mm? x 300 mm H,采用不锈钢制作

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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双靶高真空磁控溅射仪

VTC-600-2HD是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪,其中一个靶头采用直流(DC)溅射,可溅射金属靶材制备金属膜,另一个采用射频(RF)溅射,可溅射金属和氧化物靶材,制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜,如铁电、导电,合金,半导体,陶瓷,介电,光学,氧化物和PTFE薄膜等。而且设备体积较小操作方便,是一套理想的实验工具。

 

•体积小,操作简便
•真空腔室、真空泵组整机模块化设计,控制电源为分体式设计,可根据用户实际需要调整购买需求。
•可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪,购买前请联系我公司销售。

 

输入电源:220V AC 50/60Hz
功率:<2KW(包含真空泵)
溅射电源:安装有两个溅射电源:
直流(DC)电源:500W,针对于制作金属膜
射频(RF)电源:300W,可制作氧化物和金属膜

真空腔体:

真空腔体:φ300 mm  x 300 mm H,采用不锈钢制作
观察窗口:φ100 mm
腔体打开方式采用上顶开,使得换靶更加容易

气体流量控制器:

仪器内部安装有2个质量流量计,量程为:0-100sccm
气体流量设置可以在6英寸的触摸屏上进行操作
此系统运行需要Ar气,并且气瓶上安装有减压阀(设备中不包含)

真空系统:

配有一套GZK-103D分子泵系统(德国制作)
标准5E-5mbar 极限7.4E-6mbar(仅供参考,详情请点击)

薄膜测厚仪(可选):

一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上,可实时监测薄膜的厚度,分辨率为0.10 Å
LED显示屏显示,同时也输入所制作薄膜的相关数据

产品尺寸:L 1300mm× W 660mm× H 1200mm

净重160 kg

磁控溅射头:

仪器中安装有2个2英寸磁控溅射头,而且都带有水冷夹层
一个溅射头与射频电源相连接,主要是溅射绝缘性靶材
另一个溅射头与直流电源相连接,主要溅射导电性靶材
靶材尺寸要求:直径为50mm,厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)
可以单独订购RF连接线作为备用
设备包含一台水冷机,用于靶头冷却

 

载样台:

载样台尺寸:φ140mm(最大可放置4"的基底)
载样台可以旋转,其速度为:1 - 20 rpm (可调)
载样台最高可加热温度为500℃


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