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双靶磁控溅射仪
简要描述:

VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪,一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜,一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,

  • 产品型号:VTC-600-2HD-1000
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2024-12-04
  • 访  问  量:4519

详细介绍

品牌其他品牌应用领域环保,化工,生物产业,电子,交通
    双靶磁控溅射仪主要特点:

    1、配置两个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。

    2、可制备多种薄膜,应用广泛。

    3、体积小,操作简便。

    技术参数:

产品名称 VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪
产品型号 VTC-600-1HD
安装条件 本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)
2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地
3、气:设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带Ø6mm双卡套接头)及减压阀
4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通风装置:需要
主要参数 1、输入电源:220V/50Hz
2、溅射靶数量:2
3、靶枪冷却方式:水冷
4、极限真空度:7.4E-5pa
5、真空室规格:Φ300×330 mm
6、真空系统:VRD-16机械泵 FF-100/150涡轮分子泵
7、恢复真空:系统从大气抽至5.0E-3pa≤30 min(系统短时间暴露大气)
8、充气系统:2路质量流量计(1路氩气100scc、2路氩气200scc)特殊气体可定制
9、溅射靶规格:Φ2",厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)
10、样品台:Φ140mm/可旋转(1~20rpm)/可加热(室温~1000℃)
产品规格 主机尺寸:宽900mm×深650mm×高1100mm

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