全自动清洗机 适用于2至6英寸晶圆的清洗工艺 6寸以下wafer全自动清洗工艺处理 适合产能要求较高的批量产线 可选配MES协议转换模块

清洗机 适用于5、6英寸Mask清洗工艺 可选耐腐蚀PP柜体或不锈钢柜体 自动清洗多种规格MASK掩膜光罩 可接受不同规格MASK清洗定制

半柜式/全柜式清洗机 适合于8英寸及以下晶圆的单片清洗工艺 根据客户要求可选配高压、兆声、二流体等多种清洗工艺 不锈钢半柜式、柜式柜体,触摸式人机交互界面 耐腐蚀透明观察窗,配置专业排风及排废系统 可配置清洗液、氮气温控功能 可配置增压泵高压清洗 高精度清洗臂,可灵活设置清洗工艺

清洗机 适用于5、6英寸Mask清洗工艺 可选耐腐蚀PP柜体或不锈钢柜体 自动清洗多种规格MASK掩膜光罩 可接受不同规格MASK清洗定制

全自动喷胶机适用于8英寸及以下晶圆的自动喷胶工艺 全封闭结构,不锈钢框架、镜面不锈钢面板 高精度旋转加热平台,具有晶圆真空吸附及自动顶升功能 供胶系统采用微小流量供液系统,流速连续平稳,流量精确可调 高精度超声波雾化喷嘴,雾化颗粒均匀,超声波雾化功率可调 触摸式人机交互界面,可实现配方编辑及运行状态监控

全自动/轨道式去胶剥离机 适用于8英寸及以下规格晶圆的去胶剥离工艺（Liftoff工艺） 不锈钢柜体,触摸式人机交互界面 耐腐蚀透明观察窗,配置专业排风及排废系统 8寸以下化合物（钽酸锂等）全自动去胶剥离工艺处理 适合声表滤波器（SAW）行业产能要求适中的批量产线 可选配MES协议转换模块