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  • CVD气相沉积

    CVD(ChemicalVaporDeposition,化学气相沉积)是一种用于薄膜沉积的技术。它通过将气态化学前驱体反应成固态沉积物,在基材表面形成薄膜。CVD广泛应用于半导体制造、光伏设备、涂层和材料科学等领域。

    更新日期:2024-12-04
    型号:
    厂商性质:代理商
  • GSL-1700X-HVC1700°C二通道混气高真空CVD系统

    GSL-1700X-HVC是一款CE认证的二通道高真空CVD系统,它是由二路质子混气系统和高真空机组组度可达1600℃,极限真空度可达 to 10^-5 torr。混气系统可以对两种气体进行精确的混气,然后导

    更新日期:2024-12-04
    型号:GSL-1700X-HVC
    厂商性质:代理商
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